Quantum Series是量子器件制备平台。面向量子计算硬件先驱的系列沉积平台，助力用户在高度可重复的自动化框架内，可靠、放心地制备超导电路及其配套硬件。 Quantum Series（量子系列）由多款物理气相沉积（PVD）平台组成，覆盖量子计算科研与商业化开发所必需的多种制备工艺。昂斯创贸易（上海）有限公司为其中国独家授权代理，提供选型、原厂技术沟通与全周期服务。
Quantum Series（量子系列）由多款物理气相沉积（PVD）平台组成，覆盖量子计算科研与商业化开发所必需的多种制备工艺。每台系统既可专注于单一工艺，也可在原位（in-situ）集成多种工艺能力，涵盖铝基约瑟夫森结（Josephson junction）制备、铌（Nb）、钽（Ta）等超导材料的磁控溅射，以及铟凸点键合（indium bump bond）互连沉积。
采用 Quantum Series 设备制备的约瑟夫森结，已由加拿大滑铁卢大学量子计算研究所（IQC）依据成熟的 3D Transmon 量子比特基准（包括 Rabi 脉冲长度、π 脉冲与 π/2 脉冲延迟等测量）进行了独立表征验证。
- 单一工艺专用系统，或多工艺原位集成配置
- 基片加热与冷却选件
- 基片偏压功能
- 多种氧化方式：静态、动态、等离子体、UV/臭氧
核心能力与工艺配置
设备能力需要落到材料、基片、界面、控制与维护场景中理解。以下内容整理自原厂公开资料，用于建立选型边界。
均匀隧道结生长
专为约瑟夫森结设计的功能确保高纯度、均匀氧化势垒层的可重复生长。平台支持静态氧化、动态氧化、等离子体氧化及 UV/臭氧氧化等多种氧化方式，并配备高可靠气体纯化系统、氧化层生长实时监测以及晶圆温度直接光学监测，实现可定制、可重复、高可靠的氧化层制备。
精密掩影蒸发（Shadow Evaporation）
经过精心优化的可变角度样品台设计，带来极高重复性、多用途且坚固可靠的掩影蒸发工艺。可选配基片加热、冷却与偏压等工艺增强功能。
Aeres 先进工艺控制软件
PC/PLC 控制的工艺配方支持单次、批量或全自动流程，配合先进的数据记录与工艺追踪功能，确保工艺一致性。高分辨率控制带来低速率下的稳定性与一致的掺杂比例；中央控制站统一管理各功能模块并调度工艺流程，多腔体系统可独立控制各腔室。复杂配方可轻松创建与修改，PID 控制回路自动整定显著缩短工艺开发时间。
约瑟夫森结沉积
面向铝基约瑟夫森结制备的专用配置，将可控氧化与精密掩影蒸发能力相结合，制备量子比特级隧道结。
超导材料溅射
专用磁控溅射平台，用于沉积铌、钽等超导薄膜，服务于量子电路制备。
铟凸点键合沉积
专为铟凸点键合互连制备而设计的配置，可精确控制凸点高度、形貌与位置。
氧化与基片处理
支持静态、动态、等离子体及 UV/臭氧氧化，并可实现基片加热、冷却与偏压，提供全面的工艺灵活性。
技术规格参考
以下数据整理自 Angstrom Engineering 官方公开资料，用于建立选型边界；最终配置与性能以项目技术协议为准。
- 可变角度样品台倾角重复精度
- < 0.1° variation (vs. up to 1° typical on comparable systems)
可选配置
以下配置项可按研究路线逐步加入；最终组合由材料体系、目标膜质、样品尺寸与污染隔离要求共同决定。
- 单一工艺专用系统，或多工艺原位集成配置
- 基片加热与冷却选件
- 基片偏压功能
- 多种氧化方式：静态、动态、等离子体、UV/臭氧
系统与工艺细节
来自用户的长期反馈
可变角度样品台能够实现非常强大的薄膜技术，但其最大的挑战之一是重复性——哪怕角度偏差半度，纳米结构的形貌都会显著改变。Angstrom 不遗余力地优化倾角公差，将偏差从最高整整 1 度降低到 0.1 度以内。如此出色的窄公差让我们能够反复制备出极为精确的纳米结构。我可以由衷地说，Angstrom Engineering 提供的产品与服务令人赞叹。
