从研究级单腔平台，到应用专用真空集群
产品名称代表配置的平台设计方向，真正的系统由材料、基片、沉积方式、样品温度、污染控制与自动化需求共同定义。先确定工艺边界，再比较平台名称。
六大核心平台，如何选？
先确定工艺边界，再比较平台名称。下表整理了核心平台的定位差异，帮助快速缩小范围。
| 平台 | 定位 | 典型工艺 | 规模与结构 | 适合场景 |
|---|---|---|---|---|
| Covap PVD | 紧凑、安全、可靠 | 热蒸发、电子束蒸发 | 小型腔体，桌面级占地 | 单一工艺为主的实验室与共享平台 |
| Nexdep PVD | 节省空间的多工艺平台 | 溅射、蒸发及组合工艺 | 紧凑立式 / 桌面式 | 多用户实验室的通用主力设备 |
| Amod PVD | 更长源基距与过程增强 | 热蒸发、电子束、溅射 | 长 throw 腔体，装载锁可选 | OLED 与有机电子、均匀性敏感工艺 |
| EvoVac | 深度定制大腔体 | 多源共蒸、溅射+蒸发组合 | 大腔体，几乎全子系统可定制 | 复杂多层器件与特殊工艺研究 |
| Box Coater | 均匀性、产率与放大 | 蒸发、溅射批量工艺 | 大容积方腔，行星夹具 | 从研究走向中试与生产 |
| Nebula Cluster | 多腔自动化集群 | PVD / CVD / ALD / 清洗模块互联 | 按模块扩展的集群架构 | 交叉污染控制与全流程自动化 |
表中为方向性对比，完整配置与性能以项目技术协议为准。各平台均可由 AERES 软件统一控制，并支持手套箱集成等扩展。
核心平台：覆盖不同规模与工艺复杂度
从紧凑实验室系统到大型批量与集群平台，优先选择与当前和下一步工艺匹配的架构。
Covap PVD
紧凑、安全、可靠的科研级热蒸发平台，在有限占地内获得可重复的高质量薄膜。
Nexdep PVD
节省空间且工艺能力完整的可配置平台，支持蒸发、溅射及组合工艺研究。
Amod PVD
为更长源基距与更多过程增强而优化的研究平台，广泛用于 OLED 与有机电子研究。
EvoVac
为复杂过程增强而生的大腔体平台，几乎所有子系统都可按研究任务定制。
Box Coater
围绕膜厚均匀性、材料利用率与产能设计，支撑从研究到生产的放大路径。
Nebula Cluster
用户自定义的多腔室真空集群，在不破坏真空的条件下连接全部工艺模块，为未来扩展预留空间。
围绕具体应用建立的专用平台
当材料行为、器件结构或产率对方案有硬约束时，围绕应用优化的专用系列比通用平台更接近目标。
Quantum Series
面向量子比特制备与超导材料的专用沉积平台：约瑟夫森结、铌/钽溅射与铟互连。
Perovskite Series
围绕钙钛矿工艺优化的沉积平台系列：污染控制、真空内掩模交换与低能量 TCO 溅射。
Indium Series
面向铟凸点互连的专用蒸发平台：厚膜铟沉积、低温样品台与剥离良率优化。
ALD ONE
短喷射距离带来优异的材料利用率与产率；热 ALD 与等离子体增强 ALD 可选。
PLD
为先进材料研究提供无可比拟的薄膜制备精度：复杂氧化物、外延与组合材料学。
LPCVD
为石墨烯、碳纳米管与新兴材料设计：10 分钟升至 1100°C，宽压力窗口与多路气路。
Linear Sputter
面向显示、光伏与半导体的大面积线性溅射：单程完成多层膜，均匀性与产能兼顾。
RETICLE IBSD
面向高性能光学薄膜的离子束溅射平台：低缺陷、致密膜层与精密光学监控。