LPCVD是低压化学气相沉积。研究与应用石墨烯及碳纳米管的理想工具——专为满足石墨烯与 CNT 研究对高温及快速降温的严苛要求而设计制造。 LPCVD 平台配备水冷石英灯管加热炉，10 分钟内即可升至 1100°C，并能在 2 分钟内从 1100°C 降至 800°C 以下，以极短的工艺时间实现可控的石墨烯生长。昂斯创贸易（上海）有限公司为其中国独家授权代理，提供选型、原厂技术沟通与全周期服务。
LPCVD 平台配备水冷石英灯管加热炉，10 分钟内即可升至 1100°C，并能在 2 分钟内从 1100°C 降至 800°C 以下，以极短的工艺时间实现可控的石墨烯生长。
系统兼容从单个小样品到 6 英寸晶圆批量处理的多种规模，石英腔管可在 Ø50 mm 至 Ø200 mm 之间互换。
- Ø50 mm–Ø200 mm 可互换腔管
- 从单样品到 6 英寸晶圆批量处理配置
- 最多 12 路质量流量控制器
- 多腔体独立运行
核心能力与工艺配置
设备能力需要落到材料、基片、界面、控制与维护场景中理解。以下内容整理自原厂公开资料，用于建立选型边界。
反应器
可互换石英管腔体（Ø50 mm–Ø200 mm），可容纳单片或多片基片，最大尺寸 150 mm × 150 mm。上下游端法兰配备快接式进气、抽气与真空计接口。
温度与压力控制
单温区石英灯管加热炉，均温区长 6 英寸，温控自整定确保稳定；10 分钟升温至 1100°C，2 分钟内从 1100°C 降至 800°C 以下。下游压力通过 VAT 节流蝶阀在 100 mTorr–500 Torr 范围内调节，最多可配置 12 路质量流量控制器（MFC）管理工艺气体。
操作与安全
配备硬件与软件双重安全联锁、可燃气体（H₂）传感器以及带安全防护的封闭式机架。PC/PLC 控制器运行 Windows 平台的配方与控制软件，支持配方编辑、数据记录与密码分级权限管理。
Aeres 先进工艺控制软件
PC/PLC 控制的工艺配方支持单次、批量或全自动流程；先进的数据记录与工艺追踪；高分辨率控制确保低速率稳定性；中央控制站统一管理多个模块；多腔体独立控制；复杂配方轻松创建与修改；PID 控制回路自动整定。
石墨烯生长
快速升降温能力实现可控的石墨烯沉积，工艺时间大幅缩短。
碳纳米管（CNT）合成
面向碳纳米管合成与二维材料工艺的高温低压化学气相沉积。
实验室级批量制备
支持从单个小样品到最大 6 英寸晶圆的批量处理。
技术规格参考
以下数据整理自 Angstrom Engineering 官方公开资料，用于建立选型边界；最终配置与性能以项目技术协议为准。
- 最高温度
- 1100 °C
- 升温速率
- 1100 °C in 10 minutes
- 降温速率
- 1100 °C to < 800 °C in 2 minutes
- 下游压力范围
- 100 mTorr – 500 Torr (throttling VAT butterfly valve)
- 腔管直径
- Ø50 mm – Ø200 mm (interchangeable; Ø2 in – Ø8 in)
- 均温区长度
- 6 inches (single-zone quartz-lamp furnace)
- 最大基片尺寸
- 150 mm × 150 mm; wafer batches up to 6 in
- 质量流量控制器
- Up to 12
可选配置
以下配置项可按研究路线逐步加入；最终组合由材料体系、目标膜质、样品尺寸与污染隔离要求共同决定。
- Ø50 mm–Ø200 mm 可互换腔管
- 从单样品到 6 英寸晶圆批量处理配置
- 最多 12 路质量流量控制器
- 多腔体独立运行
系统与工艺细节
来自用户的长期反馈
自交付之日起，这套系统的表现近乎完美，使我们的实验能力超越了全球任何有机薄膜实验室。这一成功源于卓越的工程设计以及 Angstrom 高度协作的服务方式。
