Nebula Cluster是多腔室集群平台。Angstrom 在自动化、工程精度与用户控制方面的巅峰之作，也是与您——我们的合作伙伴——深度协作的结晶。 Nebula Cluster 集群式集成真空系统专为满足客户的具体工艺需求而设计。昂斯创贸易（上海）有限公司为其中国独家授权代理，提供选型、原厂技术沟通与全周期服务。
Nebula Cluster 集群式集成真空系统专为满足客户的具体工艺需求而设计。真空模块的数量与类型均由客户自主选定，并为未来扩展预留了充足空间。
我们与您一同构想，确定能将您的创新构想变为现实的模块组合：PVD、CVD、ALD、掩膜与暂存传输、带加热/冷却功能的样品台、辅助清洗的离子源、可变角度沉积，以及当今技术所能实现的一切。
- 真空模块数量与类型由客户自选，并预留未来扩展空间
- PVD、CVD、ALD 及面向特定应用的模块（如 Quantum Series）
- 等离子体或离子束基片清洗与预处理模块
- 基片与掩膜版存储料盒（25 个以上样品托盘）
- 按需选型 SCARA 机械手的分配模块
核心能力与工艺配置
设备能力需要落到材料、基片、界面、控制与维护场景中理解。以下内容整理自原厂公开资料，用于建立选型边界。
客户自选的模块化架构
真空模块的数量与类型完全由客户自主选定，系统架构为未来的功能扩展预留了充足空间。
基片清洗与预处理
采用等离子体或离子束源进行基片清洗与表面预处理。
基片与掩膜版存储料盒
基片与掩膜版存储料盒可按需容纳 25 个以上样品托盘。
SCARA 机械手分配模块
分配模块采用按需选型的 SCARA 机械手，通过中央机械手枢纽连接所有工艺模块，实现全自动基片流转。
手套箱集成
可将手套箱惰性气氛环境集成到一个或多个模块中。
AERES 高级工艺控制软件
基于 PC/PLC 的工艺配方控制，支持单次、批量或全自动工艺运行。先进的数据记录与过程追踪功能确保工艺的一致性与可重复性。高分辨率控制带来出色的低速率稳定性和精准一致的掺杂比例。中央控制站统一管理各模块并调度工艺进程，可对多个腔体进行独立控制。复杂工艺配方可轻松创建与修改，自动 PID 控制回路整定功能大幅缩短工艺开发周期。此外，AERES 还可优化层间工艺切换，缩短整体工艺时间。
PVD 模块
提供多种物理气相沉积（PVD）真空模块，涵盖蒸发与溅射工艺。
CVD 模块
集群系统中可配置化学气相沉积（CVD）模块。
ALD 模块
集群系统中可配置原子层沉积（ALD）模块。
面向特定应用的模块（Quantum Series）
可选配面向特定应用的模块（如 Quantum Series），满足专业化工艺需求。
等离子体与离子束清洗模块
配备等离子体或离子束源的基片清洗与预处理模块。
掩膜、暂存传输与可变角度沉积
掩膜与暂存传输、带加热/冷却功能的样品台、可变角度沉积——以及当今技术所能实现的一切。
技术规格参考
以下数据整理自 Angstrom Engineering 官方公开资料，用于建立选型边界；最终配置与性能以项目技术协议为准。
- 基片兼容性
- 标准半导体晶圆规格及典型显示玻璃，包括 Gen. 2（360 mm × 465 mm）及更大尺寸
- 存储料盒容量
- 25+ 个样品托盘（可按需配置）
- 分配机械手
- 按需选型的 SCARA 机械手
- 产能
- 取决于工艺时长与复杂度；AERES 软件优化层间切换以缩短整体工艺时间
可选配置
以下配置项可按研究路线逐步加入；最终组合由材料体系、目标膜质、样品尺寸与污染隔离要求共同决定。
- 真空模块数量与类型由客户自选，并预留未来扩展空间
- PVD、CVD、ALD 及面向特定应用的模块（如 Quantum Series）
- 等离子体或离子束基片清洗与预处理模块
- 基片与掩膜版存储料盒（25 个以上样品托盘）
- 按需选型 SCARA 机械手的分配模块
- 手套箱环境可集成至一个或多个模块
- 掩膜与暂存传输、加热/冷却样品台、可变角度沉积
系统与工艺细节
来自用户的长期反馈
自交付之日起，这套系统的表现近乎完美，可以说其能力已经超越了全球任何有机薄膜实验室所能企及的水平。这一成功源于卓越的工程实力以及 Angstrom 的通力协作精神。
