Linear Sputter是线性溅射平台。线性溅射 PVD 系统系列，可在大尺寸基板上实现高产能生产，均匀性表现出众，并能无缝集成到更大规模的量产工具集群中。 Linear Sputter（线性溅射）系列用于在大面积面板上沉积半导体或金属薄膜，服务于显示、光伏与半导体应用。昂斯创贸易（上海）有限公司为其中国独家授权代理，提供选型、原厂技术沟通与全周期服务。
Linear Sputter（线性溅射）系列用于在大面积面板上沉积半导体或金属薄膜，服务于显示、光伏与半导体应用。在超大面积或大批量基板上进行溅射，会在气流管理、等离子体与磁控管均匀性以及温度控制方面带来严峻的工程挑战；该平台针对上述各项难题逐一优化，可在超大尺寸基板上单次运行完成多层膜堆叠沉积，同时保持出色的均匀性。
即便采用超常规尺寸的靶材，材料利用率依然非常高。
- 装载锁系统（标准与集群配置）
- 光伏专用装载锁配置
- Nebula 集束系统集成选项
- 无缝集成至更大规模量产工具集群
核心能力与工艺配置
设备能力需要落到材料、基片、界面、控制与维护场景中理解。以下内容整理自原厂公开资料，用于建立选型边界。
大面积均匀性工程
对气流、等离子体、磁控管均匀性及温度控制进行一体化管理，确保超大面板上薄膜性能的高度一致。
单次运行多层膜堆叠
可在超大尺寸基板上单次运行完成多层膜结构的沉积，全程保持优异的均匀性。
高效的材料利用率
即使采用超常规尺寸靶材，靶材利用率依然很高，有效降低量产环节的使用成本。
扫描磁控管（Raster Magnetron）技术
平台采用扫描磁控管技术，助力大面积均匀沉积。
Aeres 先进工艺控制软件
PC/PLC 控制的工艺配方支持单次、批量或全自动流程；先进的数据记录与工艺追踪确保工艺一致且可重复；高分辨率控制带来低速率稳定性与一致的掺杂比例；中央控制站统一管理各模块并调度工艺；多腔体独立控制；复杂配方轻松创建与修改；PID 控制回路自动整定，缩短工艺开发时间。
显示制造
在大面积显示面板上沉积半导体与金属薄膜。
光伏/太阳能应用
面向太阳能器件生产的高产能溅射，并提供光伏专用装载锁配置。
半导体工艺
大尺寸面板多层半导体薄膜工艺，均匀性优异。
量产集群集成
可无缝集成到更大规模的量产工具集群中，包括 Nebula 集束系统配置。
可选配置
以下配置项可按研究路线逐步加入；最终组合由材料体系、目标膜质、样品尺寸与污染隔离要求共同决定。
- 装载锁系统（标准与集群配置）
- 光伏专用装载锁配置
- Nebula 集束系统集成选项
- 无缝集成至更大规模量产工具集群
系统与工艺细节
